Безмасковая система экспонирования

Microlab

Suzhou SVG Tech Group Co., Ltd. · CN

Характеристика	Значение
Источники	LED 405 нм 960 мВт; LED 405 нм 150 Вт; DPSSL 355 нм 800 мВт; LD 375 нм 1 Вт
Na	0,45; 0,8
Мин топология	0,5–1 мкм и выше
Cd uniformity	70–250 нм
Область экспонирования	100×100 … 200×200 мм
Скорость	75–300 мм²/мин
Автофокус	0–200 мкм