Установка спрей-нанесения фоторезиста

SC-200V

Suzhou MEMSTools Semiconductor Technology Co., Ltd · CN

Характеристика	Значение
Подложки	кусочки и пластины до 8"
Равномерность толщины	< 10% @ 5 μм
Нагрев столика	до 150 °С
Аспектное соотношение	3:1 при отверстии < 50 мкм; 10:1 при > 100 мкм
Сопло	регулируемая высота
Преимущества	толстые слои, экономия материала, равномерность на рельефных поверхностях